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威?；瘷C從做精細化工反應釜起家，到現在的大化工設備，設備上的攪拌裝置一般都是自己設計制造，30年來了積累了大量攪拌器設計制造經驗。隨著大化工行業的不斷發展，我們發現許多大型攪拌器裝置已經不能光憑經驗就能夠設計出來，一個成功的攪拌裝置的設計要結合化學工程與工藝、攪拌流體力學計算以及機械設計等方面的知識。鑒于這種情況，
我們在2008年與哈爾濱工業大學聯合成立了流體混合與攪拌器研發中心，專門致力于攪拌器方面的理論研究，隨著研究的不斷深入，2012年6月成立了流體混合與攪拌實驗。
流體混合與攪拌實驗室專門致力于攪拌混合方面的研究，實驗室配備了綜合試驗臺、攪拌比對試驗臺、PIV粒子成像儀器、高性能電腦以及CFD計算軟件。
綜合實驗臺式是用于測量攪拌器的功率準數和宏觀攪拌器流場的設備。它是由升降攪拌機、玻璃槽、激光發射器、電腦以及高性能相機組成。攪拌器的功率準數是一個重要的攪拌器參數，通過它就可以求得攪拌器在工作時所消耗的功率。測試時候，通過不斷變換攪拌器的轉速，通過升降攪拌機中的扭矩傳感器將攪拌器產生的扭矩傳到電腦上，通過電腦上附帶的軟件處理得到攪拌器的功率準數。同時通過給玻璃罐中加熒光粒子，能夠將攪拌器產生的流場宏觀圖呈現出來，通過高性能相機就可以將流場圖拍攝下來。
攪拌比對試驗臺是由雙軸升降攪拌器、玻璃槽、電腦及其測試軟件組成。攪拌對比實驗臺式用來進行兩種不同攪拌器在同條件下進行對比(如相同轉速、相同物料等)，通過對流場以及攪拌功率的判斷，得出最優的攪拌器組合。
PIV粒子成像儀器用于攪拌流場的測繪，通過測繪可以直接得到攪拌罐內真實的流場圖，并通過電腦轉化成速度矢量圖、云圖等，可以直觀地與CFD模擬的流場圖進行對比。PIV設備是由數字相機圖像系統、PIV脈沖激光器系統、同步控制器系統、計算機以及軟件組成。數字相機系統用來進行圖像的采集，系統PIV脈沖激光器用來發射片光源，同步控制器用來控制測量視場的同步性，計算機及軟件用來對測量的數據進行處理。
高性能電腦是用來為CFD模擬做準備的。我們的這臺電腦是現在市場上工作站的頂配?，F在我們利用CFD軟件能夠準確模擬出攪拌釜內的速度場、壓力場，還可以做攪拌釜內氣含率的模擬。通過CFD計算軟件的模擬，對攪拌器的選型、放大等都有非常大的幫助，尤其在攪拌器的放大方面，我們現在可以通過攪拌模擬和實驗達到客戶的要求，我們先通過攪拌槽模擬實驗測出攪拌器的功率準數以及攪拌流場圖，再通過計算機CFD模擬得出攪拌器的功率以及流場圖，通過二者進行對比，如果相差不大，證明計算模擬沒有問題。我們可以用電腦模擬與實物一樣大的模型，進行流場模擬，得出的流場我們就可認為它能夠反應設備內的真實流場情況，依據這個流場圖對設備進行改進。
實驗室的成立，極大促進了我們在攪拌器方面的研究。我們將會以市場為導向，以客戶為宗旨，設計中更優秀的攪拌裝置。
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